화장실에서 스마트폰을 사용하는 습관이 치질 위험을 최대 46%까지 높인다는 연구 결과가 나왔다.
3일 뉴욕포스트는 학술지 PLOS One에 게재된 연구를 인용해 화장실에서 스마트폰을 사용하는 행동이 치질 발생 확률을 46% 증가시킨다고 보도했다.
치질은 항문 안팎의 혈관이 붓는 질환으로, 통증·가려움·출혈을 유발한다.
연구는 미국 보스턴 베스 이스라엘 디코니스 메디컬 센터 소속 트리샤 파스리차 박사 연구팀이 진행했다. 연구진은 대장내시경을 앞둔 성인 125명을 대상으로 화장실 습관을 조사했다.
그 결과 전체 참가자 중 66%가 화장실에서 스마트폰을 사용한다고 답했다. 이 중 37%는 한 번 앉아 있을 때 5분 이상 화장실에서 머문다고 답했다.
반면 화장실에서 스마트폰을 사용하지 않는 사람들 중 5분 이상을 머문 경우는 7.1%에 불과했다.
연구진은 화장실에서 스마트폰을 사용하는 습관이 배변 시간을 무의식적으로 늘려 항문과 직장 부위에 압력을 증가시키고, 이로 인해 혈관이 부풀어 치질 위험이 높아질 수 있다고 분석했다.
파스리차 박사는 “이번 연구는 화장실에 들어갈 때 스마트폰을 두고 가야 하며, 배변에는 몇 분 이상 시간을 들이지 말라는 조언을 뒷받침한다”고 말했다.
이어 그는 “만약 오래 걸린다면 정말 배변이 힘든 건지, 아니면 내 집중이 다른 데 있었던 건지 스스로 물어야 한다”고 덧붙였다.
연구진은 환자를 장기간 추적 관찰하고, 화장실 사용 제한 전략을 검증하는 추가 연구가 필요하다고 강조했다.
전문가들은 치질 예방을 위해 배변 시간을 최대 10~15분 이내로 제한할 것을 권장했다. 롱아일랜드 위장병 전문의 데이비드 L.슈바르츠바움 박사는 “세상으로부터 잠시 벗어나고 싶다면, 변기 안이 아니라 변기 뚜껑 위에 앉으라”고 조언했다.
한편 이번 연구는 기존 연구들과 달리 배변 시 힘을 주는 행동은 치질 위험을 높이지 않는다고 결론을 내렸다.
치질의 다른 잠재적 원인으로는 변비, 무거운 물건 들기, 임신, 유전, 비만, 노화로 인한 혈관 약화 등이 꼽힌다.
